【产品中心】光刻胶的作用原理(浅析光刻胶的组成与作用)
光刻胶的作用原理 光刻胶是一种在半导体工艺中广泛应用的材料,它的作用是在光刻过程中形成图案,用于制造微电子器件。光刻胶的作用原理涉及其组成和作用机制。本文将从光刻胶的组成和作用两个方面,浅析光刻胶的作用原理。 光刻胶的组成 光刻胶主要由以下几个组成部分构成: 1. 光敏剂:光敏剂是光刻胶中最重要的成分之一,它能够吸收特定波长的光,并引发光化学反应。光敏剂的选择取决于所需的曝光波长和应用要求。 2. 聚合物基质:聚合物基质是光刻胶的主要组分,它提供了胶体的粘度和流动性。常用的聚合物基质包括丙烯酸